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![有机合成光化学的技术创新五：流动光化学 -光裂解和光脱保护（Photocleavage and Photodeprotection）]()
有机合成光化学的技术创新五：流动光化学 -光裂解和光脱?；ぃ≒hotocleavage and Photodeprotection）
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2022-03-01
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![热、电化学或相关策略来生成和使用危险试剂和相关反应性中间体]()
?；せ旁诤铣捎谢Я煊颍乇鹗窃诟丛由锘钚苑肿拥娜铣芍芯哂胁豢晒懒康闹匾?。 理想的保护基团应具有两个特性：(1) ?；っ舾泄倌芡旁谒婧蟮哪柑宸肿有奘喂讨忻馐懿幌Ｍ姆从?， (2) 以高产率和选择性安装和去除它。 光裂解是官能团去?；さ睦硐氩呗?，因为它通常与更传统的热或酸碱型去?；げ呗哉?。
2022-03-01
